Top hat electrode for memory applications and methods of fabrication

WO2019005163 Art A1 3. Januar 2019

Anmelder: INTEL Corporation, Pillarisetty, Ravi, Sharma, Abhishek A., Dewey, Gilbert, Le, Van H., Kavalieros, Jack T. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019005163
Aktenzeichen: EP17915997
Anmeldetag: 30. Juni 2017
Veröffentlichung: 3. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L43/02H01L43/10H01L43/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: INTEL Corporation
Pillarisetty, Ravi
Sharma, Abhishek A.
Dewey, Gilbert
Le, Van H.
Kavalieros, Jack T.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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