Systems, methods, and apparatuses for implementing dynamic learning mask correction for resolution enhancement and optical proximity correction (opc) of lithography masks

WO2019005170 Art A1 3. Januar 2019

Anmelder: INTEL Corporation, Britson, Jason, Raghunathan, Anjan V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019005170
Aktenzeichen: EP17915861
Anmeldetag: 30. Juni 2017
Veröffentlichung: 3. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/72G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: INTEL Corporation
Britson, Jason
Raghunathan, Anjan V.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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