Semiconductor storage device and method for forming a profile of a capacitor thereof
WO2019007373
Art A1
10. Januar 2019
Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019007373
- Aktenzeichen
- EP18827543
- Anmeldetag
- 4. Juli 2018
- Veröffentlichung
- 10. Januar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/64H01L27/108
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Changxin Memory Technologies, Inc.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Changxin Memory Technologies
Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.
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