Bi-layer resist approach of photolithographic patterning over pmma based polymer dielectrics

WO2019008602 Art A1 10. Januar 2019

Anmelder: Indian Institute Of Technology Madras (IIT Madras) 🇮🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019008602
Aktenzeichen: EP18829164
Anmeldetag: 6. Juli 2018
Veröffentlichung: 10. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Indian Institute Of Technology Madras (IIT Madras)
Land: 🇮🇳 Indien

🇮🇳 Indian Institute of Technology Madras (iit Madras)

Das Indian Institute of Technology Madras (IIT Madras) ist eine der führenden staatlichen technischen Hochschulen Indiens mit Sitz in Chennai. Das Patentportfolio verteilt sich breit über Nachrichtentechnik, Mess- und Prüftechnik sowie Software, ergänzt um Medizintechnik und anorganische Chemie. Die Anmeldungen aus den Jahren 2018 bis 2025 spiegeln ein interdisziplinäres Forschungsprofil von Wasserstofftechnologie bis Bioinformatik wider.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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