Alkaline Developer Soluable Silicon-Containing Resist Underlayer Film-Forming Composition

WO2019009413 Art A1 10. Januar 2019

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019009413
Aktenzeichen: EP18828317
Anmeldetag: 6. Juli 2018
Veröffentlichung: 10. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/14G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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