Donor substrate having light-to-heat conversion layer and hydrophobic thin-film pattern, donor substrate having light-to-heat conversion pattern and hydrophobic thin-film pattern, and method for forming light-emitting pattern by using donor substrate

WO2019009587 Art A1 10. Januar 2019

Anmelder: Korea Institute of Industrial Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019009587
Aktenzeichen: EP18828684
Anmeldetag: 3. Juli 2018
Veröffentlichung: 10. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/56H01L51/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Institute of Industrial Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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