Damascene patterning for thin-film transistor fabrication

WO2019009873 Art A1 10. Januar 2019

Anmelder: INTEL Corporation, Lin, Kevin, Le, Van, Kavalieros, Jack 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019009873
Aktenzeichen: EP17916966
Anmeldetag: 1. Juli 2017
Veröffentlichung: 10. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: INTEL Corporation
Lin, Kevin
Le, Van
Kavalieros, Jack
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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