A method of gas-phase molecular layer-by-layer deposition on a microporous support
WO2019010696
Art A1
17. Januar 2019
Anmelder: General Electric Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019010696
- Aktenzeichen
- EP17917567
- Anmeldetag
- 14. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/00C23C16/448
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- General Electric Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
General Electric
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.
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