Method for cleaning a component of a material deposition source, method for the manufacture of a material deposition source, and apparatus for cleaning a component of a material deposition source

WO2019011449 Art A1 17. Januar 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019011449
Aktenzeichen: EP17739996
Anmeldetag: 14. Juli 2017
Veröffentlichung: 17. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/12B08B9/032B08B9/08C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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