Method to obtain a height map of a substrate having alignment marks, substrate alignment measuring apparatus and lithographic apparatus

WO2019011531 Art A1 17. Januar 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019011531
Aktenzeichen: EP18727834
Anmeldetag: 5. Juni 2018
Veröffentlichung: 17. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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