Semiconductor wafer made of single-crystal silicon and process for the production thereof
WO2019011638
Art A1
17. Januar 2019
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019011638
- Aktenzeichen
- EP18733274
- Anmeldetag
- 25. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/04C30B15/20C30B29/06H01L21/322C30B25/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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