Composition for electroless plating underlying membrane

WO2019013179 Art A1 17. Januar 2019

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019013179
Aktenzeichen: EP18832011
Anmeldetag: 9. Juli 2018
Veröffentlichung: 17. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/20B32B15/095C08G18/42C08G18/48C08G18/80C08G73/00C09D5/00C09D7/65C09D163/00C09D175/04C09D175/06C09D175/08C23C18/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

2.158 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von