Methods and systems for semiconductor metrology based on polychromatic soft x-ray diffraction

WO2019014283 Art A1 17. Januar 2019

Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019014283
Aktenzeichen: EP18832932
Anmeldetag: 11. Juli 2018
Veröffentlichung: 17. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/201G01B15/00H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KLA-Tencor Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen