Control of reticle placement for defectivity optimization

WO2019015930 Art A1 24. Januar 2019

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019015930
Aktenzeichen: EP18737840
Anmeldetag: 28. Juni 2018
Veröffentlichung: 24. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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