Methods and apparatus for measurement of a parameter of a feature fabricated on a semiconductor substrate

WO2019015995 Art A1 24. Januar 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019015995
Aktenzeichen: EP18739508
Anmeldetag: 6. Juli 2018
Veröffentlichung: 24. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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