Atomic layer clean for removal of photoresist patterning scum

WO2019018227 Art A1 24. Januar 2019

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019018227
Aktenzeichen: EP18835915
Anmeldetag: 13. Juli 2018
Veröffentlichung: 24. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/683H01L21/027H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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