Apparatus and system for processing a substrate in a vacuum chamber, and method of transporting a carrier in a vacuum chamber
WO2019020167
Art A1
31. Januar 2019
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019020167
- Aktenzeichen
- EP17751042
- Anmeldetag
- 24. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04C23C14/50C23C16/04C23C16/458H01L21/68H01L51/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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