Application device, application method, and computer storage medium

WO2019021859 Art A1 31. Januar 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019021859
Aktenzeichen: EP18839469
Anmeldetag: 13. Juli 2018
Veröffentlichung: 31. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: B05C11/10B05C5/02B05C13/02B05D1/26B05D3/00B05D5/06G02B5/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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