Metal-containing film forming composition for extreme ultraviolet light or electron beam lithography, metal-containing film for extreme ultraviolet light or electron beam lithography, and pattern forming method

WO2019021975 Art A1 31. Januar 2019

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019021975
Aktenzeichen: EP18838385
Anmeldetag: 20. Juli 2018
Veröffentlichung: 31. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07F5/06C07F7/00C07F7/18C07F7/28G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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