Novel polymer for formation of resist underlayer film, composition for formation of resist underlayer film comprising same and method for manufacturing semiconductor element by using same

WO2019022394 Art A1 31. Januar 2019

Anmelder: SK Innovation Co., Ltd., SK Global Chemical Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019022394
Aktenzeichen: EP18838814
Anmeldetag: 2. Juli 2018
Veröffentlichung: 31. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C08G61/02G03F7/11G03F7/004H01L21/027G03F7/09G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SK Innovation Co., Ltd.
SK Global Chemical Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 SK Innovation

Südkoreanischer Konzern mit Schwerpunkten Erdöl- und Petrochemieverarbeitung sowie Batterietechnologie, insbesondere Lithium-Ionen-Akkus für Elektrofahrzeuge und Energiespeicher.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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