Gas spraying apparatus of substrate processing apparatus, substrate processing apparatus and substrate processing method

WO2019022430 Art A1 31. Januar 2019

Anmelder: Jusung Engineering Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019022430
Aktenzeichen: EP18837538
Anmeldetag: 18. Juli 2018
Veröffentlichung: 31. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67H01L21/02H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Jusung Engineering Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Jusung Engineering

Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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