Pre-treatment approach to improve continuity of ultra-thin amorphous silicon film on silicon oxide

WO2019022826 Art A1 31. Januar 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019022826
Aktenzeichen: EP18837668
Anmeldetag: 24. Mai 2018
Veröffentlichung: 31. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/3065H01L21/3213H01L21/311H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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