System and method for backside deposition of a substrate

WO2019023636 Art A1 31. Januar 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019023636
Aktenzeichen: EP18838481
Anmeldetag: 27. Juli 2018
Veröffentlichung: 31. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/44C23C16/46C23C16/52H01L21/02H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von