Semiconductor device, and high voltage device with self-electrostatic discharge protection

WO2019024917 Art A1 7. Februar 2019

Anmelder: CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019024917
Aktenzeichen
EP18841054
Anmeldetag
3. August 2018
Veröffentlichung
7. Februar 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L23/60
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 CSMC Technologies Fab2

CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. ist ein chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Wuxi, der als Foundry Leistungshalbleiter und analoge Bauelemente fertigt. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Elektronik, Optik und Mess- und Prüftechnik. Anmeldungen erfolgen seit 2010 bis in die Gegenwart.

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