Composition for treating semiconductor and treatment method

WO2019026478 Art A1 7. Februar 2019

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019026478
Aktenzeichen: EP18840681
Anmeldetag: 27. Juni 2018
Veröffentlichung: 7. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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