Pattern forming method and processing solution
WO2019026885
Art A1
7. Februar 2019
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019026885
- Aktenzeichen
- EP18842250
- Anmeldetag
- 31. Juli 2018
- Veröffentlichung
- 7. Februar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/32C08F20/10G03F7/038G03F7/039G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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