Method for detecting voids and an inspection system
WO2019028017
Art A1
7. Februar 2019
Anmelder: Applied Materials Israel Ltd., Applied Materials, Inc. 🇮🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019028017
- Aktenzeichen
- EP18840570
- Anmeldetag
- 31. Juli 2018
- Veröffentlichung
- 7. Februar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G01Q90/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials Israel Ltd.
Applied Materials, Inc. - Land
- 🇮🇱 Israel
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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