Selective deposition of sin on horizontal surfaces

WO2019028136 Art A1 7. Februar 2019

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019028136
Aktenzeichen: EP18842265
Anmeldetag: 1. August 2018
Veröffentlichung: 7. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L27/11524H01L21/3213H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von