Method for preparing bottom-gate low temperature poly-silicon transistor
WO2019028972
Art A1
14. Februar 2019
Anmelder: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019028972
- Aktenzeichen
- EP17921002
- Anmeldetag
- 21. September 2017
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336H01L29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
China Star Optoelectronics (CSOT)
Chinesischer Displayhersteller mit Sitz in Shenzhen, Tochtergesellschaft des TCL-Konzerns. CSOT entwickelt und produziert LCD- und OLED-Panels für Fernseher, Monitore und mobile Endgeräte.
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