Polymer, resin composition, resin film, method for producing patterned resin film, and electronic component

WO2019031114 Art A1 14. Februar 2019

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019031114
Aktenzeichen: EP18844706
Anmeldetag: 3. Juli 2018
Veröffentlichung: 14. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C08L101/06C08F212/14G03F7/023G03F7/038G03F7/075G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von