Device and method for measuring thickness and refractive index of multilayer thin film by using angle-resolved spectral reflectometry

WO2019031667 Art A1 14. Februar 2019

Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019031667
Aktenzeichen: EP18844156
Anmeldetag: 26. Januar 2018
Veröffentlichung: 14. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G01B9/02G01B11/06G01J3/02G06T7/60G02B27/14G02B27/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Korea Research Institute of Standards and Science
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von