Selective Electroless Electrochemical Atomic Layer Deposition in an Aqueous Solution Without External Voltage Bias

WO2019036234 Art A1 21. Februar 2019

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019036234
Aktenzeichen: EP18845732
Anmeldetag: 7. August 2018
Veröffentlichung: 21. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/54C23C18/52

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von