Nanometer depth of cut high-speed single-point scratching test apparatus and test method therefor

WO2019037282 Art A1 28. Februar 2019

Anmelder: Dalian University Of Technology 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019037282
Aktenzeichen
EP17922723
Anmeldetag
8. November 2017
Veröffentlichung
28. Februar 2019
Rechtsraum
WO
IPC
G01N19/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Dalian University Of Technology
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Dalian University of Technology

Die Dalian University of Technology ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem naturwissenschaftlich-technischem Forschungsprofil. Das Portfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Fertigungsverfahren und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2004 bis in die Gegenwart belegt.

883 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen