Method for producing vapor deposition mask and apparatus for producing vapor deposition mask

WO2019038833 Art A1 28. Februar 2019

Anmelder: SHARP Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019038833
Aktenzeichen: EP17922534
Anmeldetag: 22. August 2017
Veröffentlichung: 28. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04H01L51/50H05B33/10H05B33/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHARP Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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