Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern-forming method, method for producing electronic device, resist film-equipped mask blank, pattern-forming method for resist film-equipped mask blank
WO2019039290
Art A1
28. Februar 2019
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019039290
- Aktenzeichen
- EP18848894
- Anmeldetag
- 8. August 2018
- Veröffentlichung
- 28. Februar 2019
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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