Substrate processing method, computer storage medium and substrate processing system

WO2019039432 Art A1 28. Februar 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019039432
Aktenzeichen: EP18847827
Anmeldetag: 20. August 2018
Veröffentlichung: 28. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/301H01L21/304H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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