Optical systems, metrology apparatus and associated methods

WO2019042809 Art A1 7. März 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019042809
Aktenzeichen: EP18759595
Anmeldetag: 20. August 2018
Veröffentlichung: 7. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G21K1/06G03F7/00G03F7/20G02B17/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von