Substrate processing system, and substrate processing method

WO2019044506 Art A1 7. März 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019044506
Aktenzeichen: EP18851844
Anmeldetag: 15. August 2018
Veröffentlichung: 7. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683H01L21/02H01L21/301H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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