Epitaxy system integrated with high selectivity oxide removal and high temperature contaminant removal

WO2019046000 Art A1 7. März 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019046000
Aktenzeichen
EP18850396
Anmeldetag
13. August 2018
Veröffentlichung
7. März 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/67H05H1/46H01L21/677H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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