Method for determining a control parameter for an apparatus utilized in a semiconductor manufacturing process

WO2019048137 Art A1 14. März 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019048137
Aktenzeichen: EP18753330
Anmeldetag: 30. Juli 2018
Veröffentlichung: 14. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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