Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method

WO2019048147 Art A1 14. März 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019048147
Aktenzeichen: EP18752719
Anmeldetag: 3. August 2018
Veröffentlichung: 14. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/24G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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