Methods of inspecting samples with multiple beams of charged particles

WO2019048293 Art A1 14. März 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Hermes Microvision Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019048293
Aktenzeichen: EP18762266
Anmeldetag: 28. August 2018
Veröffentlichung: 14. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Hermes Microvision Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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