Gaseinlassorgan für einen Cvd- oder Pvd-Reaktor

WO2019048670 Art A1 14. März 2019

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019048670
Aktenzeichen: EP18769639
Anmeldetag: 10. September 2018
Veröffentlichung: 14. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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