Composition, film, method for forming film, and method for producing patterned substrate

WO2019049795 Art A1 14. März 2019

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019049795
Aktenzeichen: EP18852975
Anmeldetag: 31. August 2018
Veröffentlichung: 14. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C09D201/02C07D317/46C07D317/54C07D317/64C07D405/14C08L101/06C09D5/00G03F7/11G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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