Photomask blank, photomask, light exposure method and method for producing device

WO2019049919 Art A1 14. März 2019

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019049919
Aktenzeichen: EP18853955
Anmeldetag: 6. September 2018
Veröffentlichung: 14. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/58B32B15/04C03C15/00C03C17/36G03F1/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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