Compositions and methods for etching silicon nitride-containing substrates
WO2019051053
Art A1
14. März 2019
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019051053
- Aktenzeichen
- EP18853348
- Anmeldetag
- 6. September 2018
- Veröffentlichung
- 14. März 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K13/08C09K13/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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