Semiconductor device and manufacturing method thereof
WO2019053558
Art A1
21. März 2019
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019053558
- Aktenzeichen
- EP18857206
- Anmeldetag
- 5. September 2018
- Veröffentlichung
- 21. März 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/786H01L21/336H01L21/8234H01L21/8242H01L27/06H01L27/088H01L27/108H01L29/788H01L29/792
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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