Substrate processing device, substrate processing method and substrate processing device control method
WO2019054083
Art A1
21. März 2019
Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019054083
- Aktenzeichen
- EP18856407
- Anmeldetag
- 3. August 2018
- Veröffentlichung
- 21. März 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304F26B5/04F26B25/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN Holdings Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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