Method for texturing semiconductor substrate, semiconductor substrate manufactured by same method and solar cell comprising same semiconductor substrate

WO2019054555 Art A1 21. März 2019

Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019054555
Aktenzeichen: EP17925174
Anmeldetag: 1. November 2017
Veröffentlichung: 21. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/0236H01L31/18H01L21/027H01L21/311H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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