Method for dither free adaptive and robust dose control for photolithography

WO2019055247 Art A1 21. März 2019

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019055247
Aktenzeichen: EP18857336
Anmeldetag: 4. September 2018
Veröffentlichung: 21. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/13H01S3/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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